A new laboratory EUV reflectometer for large optics using a laser plasma source
L. van Loyen, T. Boettger, S. Braun, H. Mai, A. Leson, F. Scholze, J.Tuemmler, G. Ulm, H. Legall, P.V. Nickles, W. Sandner, H. Stiel, C. E. Rempel, M. Schulze, J. Brutscher, F. Macco, S. Muellender